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  • 公司王思钱、胡方旋赴智利参加国际口腔修复学术大会
  • 作者: 胡方旋   编辑:   来源: 修复科  浏览:7143   时间:2017年09月22日
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    近日,公司王思钱、胡方旋应邀赴智利参加了17届国际口腔修复学会学术大会(ICP)。ICP是世界口腔修复学领域规格最高、规模最大的学术会议之一,本次智利ICP是国际口腔修复学界又一次学术盛会,来自国内20位代表与全球近600位口腔修复学者参加了本次会议。

    公司王思钱投稿的“Effect Of Different Surface Treatments On Shear Bond Strength Of Zirconia Cemented To Veneering Ceramic”在会议进行期间进行了壁报展示,这充分展示了公司口腔修复学在科研领域的实力。两位与来自世界各地的口腔修复专家及同仁就壁报内容进行了深入的讨论与交流,在场专家对论文做了中肯点评,这对后期的科研设计思路具有重要的指导作用。

    据悉,此次大会为期4天,来自30多个国家的口腔修复学专家学者围绕主题开展了一系列的讲座报告,大会同时以壁报展览、论坛等形式,为各位与会人员提供了充分交流的平台。

    近几年,公司国际化水平不断提升,越来越多的口腔人有机会走出国门参加学术会议,在国际平台上开展学术、科研交流,把握国际口腔医学发展的最新前沿,发展趋势以及在该领域中科研的最新进展,为公司科研工作的开展奠定基础。

     


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